Madala hapnikusisaldusega vaskvarras VS hapnikuvaba vaskvarras
Madala hapnikusisaldusega vaskvarras: pideva valamise ja valtsimise meetodil toodetud vaskvarras on kuumvaltsitud kaitsetingimustes. Hapnikusisaldus jääb vahemikku 200-500ppm, kuid mõnikord ulatub see isegi 700 ppm-ni. Üldiselt on selle meetodiga toodetud vasel hele pind, mida nimetatakse madala hapnikusisaldusega vaskvardaks, mõnikord nimetatakse seda ka poleeritud vardaks.
Vaskvarda, mis on toodetud hapnikuvaba vase ülesvalu meetodil, nimetatakse hapnikuvabaks vaskvardaks, kui hapnikusisaldus on alla 10 ppm.
Hapniku sissehingamisest ja eemaldamisest ning selle olemasolust
Vaskvardade tootmiseks kasutatava katoodvase hapnikusisaldus on üldiselt 10-50ppm ja hapniku lahustuvus vases on toatemperatuuril umbes 2 ppm. Madala hapnikusisaldusega vaskpulga hapnikusisaldus on üldiselt 200 (175) - 400 (450) ppm, seega hingatakse hapnikku vase vedelas olekus. Mikrostruktuuri vaatenurgast on hapnik vähese hapnikusisaldusega vases terade piiri lähedal vaskoksiidi kujul, mis on tavaline madala hapnikusisaldusega vaskvarraste puhul, kuid haruldane hapnikuvabade vaskvarraste puhul. Vaskoksiidi ilmumine inklusiooni kujul tera piiril mõjutab negatiivselt materjali sitkust. Kuid hapnikuvaba vase hapnik on väga madal, mistõttu on selle vase mikrostruktuur ühtlane ja ühefaasiline, mis on vastupidavusele kasulik.
Erinevus kuumvaltsitud struktuuri ja valatud struktuuri vahel
Madala hapnikusisaldusega vaskvarras on kuumvaltsitud, nii et selle struktuur kuulub kuumtöötlemisstruktuuri hulka. Algne valustruktuur on katki ja rekristallisatsiooni vorm on ilmnenud, kui varras on 8mm, samas kui hapnikuvaba vaskvarras kuulub valustruktuuri, jämedateraline. Hapnikuvaba vase eduka lõõmutamise nõue on see, et ilma valustruktuurita vardast tõmmatud traadi esimese lõõmutamise võimsus peaks olema 10-15 protsenti kõrgem kui madala hapnikusisaldusega vasel samas olukorras. . Pärast pidevat tõmbamist tuleb reserveerida piisav varu lõõmutamisvõimsuse jaoks hilisemas etapis ning madala hapnikusisaldusega vase ja hapnikuvaba vase puhul rakendatakse erinevaid lõõmutamisprotsesse, et tagada toodete paindlikkus protsessis ja valmistraadis.
Erinevus hapnikusisalduse kõikumise ja võimalike kuumvaltsimise defektide vahel
Hapnikuvaba vaskvarda venitatavus on kõigi traadi läbimõõtude puhul parem kui madala hapnikusisaldusega vaskvarda oma. Lisaks ülaltoodud struktuursetele põhjustele on hapnikuvabal vaskvardal vähem lisandeid, stabiilne hapnikusisaldus ja puuduvad defektid, mis võivad tekkida kuumvaltsimisel. Pideva valamise ja valtsimise protsessis, kui protsess on ebastabiilne ja hapniku seire ei ole range, mõjutab ebastabiilne hapnikusisaldus otseselt varda jõudlust.
Sitkuse erinevus madala hapnikusisaldusega vaskvarda ja hapnikuvaba vaskvarda vahel
Mõlemat saab tõmmata kuni {{0}},015 mm, kuid madalatemperatuurilises ülijuhtivas traadis on madala temperatuuriga hapnikuvaba vase peentraatide vaheline kaugus vaid 0,001 mm.
Majanduslik erinevus tooraine ja tootmisliinide vahel
The manufacturing of oxygen-free copper rods requires high-quality raw materials. Generally, when drawing copper wire with diameter>1 mm, on madala hapnikusisaldusega vaskvarda eelised ilmsed, samas kui hapnikuvaba vaskvarda eelised on ilmsemad läbimõõduga vasktraadi tõmbamisel<0.5mm.
Traadi valmistamise protsessi erinevus
Madala hapnikusisaldusega vaskvardade traadi tootmisprotsessi ei saa üle kanda hapnikuvaba vaskvarda traadi tootmisprotsessi, vähemalt nende kahe lõõmutamisprotsess on erinev. Kuna traadi painduvust mõjutavad sügavalt materjali koostis ja varda valmistamise, traadi valmistamise ja lõõmutamise protsess, ei saa lihtsalt öelda, et madala hapnikusisaldusega vask või hapnikuvaba vask on pehme ja kõva.
